真空鍍膜機需要先測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能;然后再測試設備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔;第三步，產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等;如果有工藝保證的話就繼續打樣并作測試;并且所有的測試應作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認簽字即可。對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

　　在光學薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內。原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在對于多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。對于晶格有序度的均勻性，這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題