卷繞鍍膜機的功能特性有哪些

　　現在我們的卷繞鍍膜機至少包括一個鍍膜真空室，置于鍍膜真空室之外的卷材放卷機構和收卷機構，其特征是在鍍膜真空室與卷材放卷機構和收卷機構之間有至少一個帶材進出通過的真空通道，真空通道由窄縫阻尼通道和真空抽氣室組成的真空鎖構成。

　　新型卷繞鍍膜機卷材放卷機構和收卷機構置于真空室之外，真空鎖和窄縫阻尼通道密封可靠，壽命長，設備制造成本低，能進行連續生產，鍍膜機能在塑料薄膜、金屬板材表面進行單層或多層鍍膜，且獲得的鍍膜表面微觀結構非常致密，表面平滑。

　　卷繞鍍膜機在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會使靶面產生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產生的，磁場的作用則是使等離子體束會聚并偏轉至靶面。

　　因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統內也有磁場，但其磁場卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場不均勻帶來的“磁控”的缺點。