發(fā)布時間：2021-04-22蒸發(fā)鍍膜機

發(fā)布時間：2021-01-12真空卷繞鍍膜機有哪些類型，以及它的原理?

蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備根據(jù)蒸鍍工藝可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)不同還可分為：單室、雙室和多室卷繞鍍膜設(shè)備

發(fā)布時間：2021-01-12卷繞鍍膜機卷膜條件

　卷繞鍍膜機卷膜條件： 卷膜有效幅寬 1050mm 卷膜大直徑 ф400mm 卷繞芯軸直徑 ф100mm(3寸不銹鋼芯軸)

發(fā)布時間：2020-12-28多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍

?多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。

發(fā)布時間：2020-12-28淺析真空鍍膜機的原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大工作原理。

發(fā)布時間：2020-12-16多弧離子鍍膜機幾種排氣方法

多弧離子鍍膜機的抽真空通常采用下面幾種排氣方法：單純排氣工藝、抽空加熱排氣工藝、空氣預(yù)加熱排氣工藝。

發(fā)布時間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術(shù)的應(yīng)用范圍

　　磁控濺射目前是一種應(yīng)用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)，濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

發(fā)布時間：2020-11-28光學(xué)鍍膜機對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

光學(xué)鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。

發(fā)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機廣泛應(yīng)用塑料制品、陶瓷等行業(yè)

磁控濺射光學(xué)鍍膜機廣泛應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。

發(fā)布時間：2020-11-09磁控濺射鍍膜機鍍膜原理

　磁控濺射鍍膜機使用磁控濺射鍍膜靶源，無論是非平衡式還是平衡式的磁控濺射鍍膜靶源，如果是靜止的磁鐵產(chǎn)生的磁場功對材的利用率會小于30%。