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發(fā)布時間：2021-01-22磁控濺射鍍膜設(shè)備能夠應(yīng)用于哪些方面呢?
磁控濺射鍍膜設(shè)備在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：比如說切削工具、磨具和耐磨耐腐蝕等配件。在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。
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發(fā)布時間：2021-01-12磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程
磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費(fèi)品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強(qiáng)度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，好地滿足消費(fèi)者的個性化需求
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發(fā)布時間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機(jī)磁控濺射技術(shù)的應(yīng)用范圍
磁控濺射目前是一種應(yīng)用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)，濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
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發(fā)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜設(shè)備原理及發(fā)展起源
磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作原理要從一開始的“濺射現(xiàn)象”說起。人們由起初發(fā)覺“濺射現(xiàn)象”發(fā)展至“濺射鍍膜”此間歷經(jīng)了相當(dāng)長的發(fā)展時間，濺射現(xiàn)象早在19世紀(jì)50年代的法拉第氣體放電實驗就已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了
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發(fā)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用塑料制品、陶瓷等行業(yè)
磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。
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發(fā)布時間：2020-11-11磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法
磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法 1.無法起輝 (1)直流電源毛病，查看直流電源; (2)氬氣進(jìn)氣量小，查看氬氣流量計或加大氬氣進(jìn)氣量; (3)真空室清潔度不行，清潔真空室;
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發(fā)布時間：2020-11-09磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜原理
磁控濺射鍍膜機(jī)使用磁控濺射鍍膜靶源，無論是非平衡式還是平衡式的磁控濺射鍍膜靶源，如果是靜止的磁鐵產(chǎn)生的磁場功對材的利用率會小于30%。
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發(fā)布時間：2020-09-16淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素
淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素 (1) 靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。
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發(fā)布時間：2018-01-04磁控濺射鍍膜機(jī)?技術(shù)規(guī)格特點
磁控濺射技術(shù)是最常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設(shè)備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點，因此被廣泛使用。
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